WAFER BOX WITH RADIALLY PIVOTING LATCH ELEMENTS
The semiconductor wafer containment device or wafer box includes a base (10) with a planar floor (12) and a double concentric cylindrical wall structure (22, 24) arising therefrom. The double concentric cylindrical wall structure includes slots (26, 28) through which latch elements (44, 46) pivot ra...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | The semiconductor wafer containment device or wafer box includes a base (10) with a planar floor (12) and a double concentric cylindrical wall structure (22, 24) arising therefrom. The double concentric cylindrical wall structure includes slots (26, 28) through which latch elements (44, 46) pivot radially. The latch elements include an inward padded spacer element (52, 53). The latch elements pivot between an outward position wherein the padded spacer elements are relatively away from the wafer containment space and an inward upright position wherein the padded spacer elements impinge into the wafer containment space and are urged against the semiconductor wafers therein. Ramps (77, 79) on the lid (70) capture the latch elements in the outward position and urge the latch elements to pivot to the inward upright position and be detent engaged in this position by slots (76, 78) formed on the lid.
La présente invention a trait à un dispositif destiné à contenir des plaquettes semi-conductrices ou boîte de plaquettes comportant un fond avec une base plan et une double structure de parois cylindriques concentriques s'élevant à partir de celle-ci. La double structure de parois cylindriques concentriques comporte des fentes à travers desquelles des éléments de verrouillage réalisent un pivotement radial. Les éléments de verrouillage comprennent un élément d'espacement matelassé vers l'intérieur. Les éléments de verrouillage pivotent entre une position vers l'extérieur dans laquelle les éléments d'espacement matelassés sont relativement éloignés de l'espace renfermant les plaquettes et une position verticale vers l'intérieur dans laquelle les éléments d'espacement matelassés pénètrent l'espace renfermant les plaquettes et viennent en contact avec les plaquettes semi-conductrices qui y sont logées. Des rampes sur le couvercle emprisonnent les éléments de verrouillage dans la position orientée vers l'extérieur et sollicitent les éléments de verrouillage à pivoter vers la position verticale vers l'intérieur en vue de leur engagement cranté dans cette position par des fentes formées sur le couvercle. |
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