RESIST COMPOSITION WITH ENHANCED X-RAY AND ELECTRON SENSITIVITY

A resist composition (10) with enhanced X-ray and electron sensitivity includes a plurality of chemically inert nanoparticles (12) dispersed throughout a base resist material. The nanoparticles have a higher atomic number than the base resist material and each of the nanoparticles is formed by a nanoparticle core (14), e.g., of a noble metal, coated with an organic capping layer or shell (16). The latter renders the core dispersible and chemically compatible with the resist material surrounding the nanoparticle. A method of making a resist composition (10) with enhanced X-ray and electron sensitivity is to provide a resist material and disperse chemically inert nanoparticles (12) throughout the resist. The nanoparticles have a higher atomic number than the resist and a have core/shell structure. A resist composition with enhanced X-ray and electron sensitivity can be made by having a nanoparticle core (14), with a higher atomic number than the resist, that is coated with an organic capping layer (16). The nanoparticle with the core/shell structure is then dispersed throughout the resist material. La présente invention concerne une composition de résine (10) à la sensibilité aux rayons X et aux électrons accrue qui comprend une pluralité de nanoparticules chimiquement inertes (12) dispersées et dans un matériau de résine base. Ces nanoparticules possèdent un nombre atomique plus élevé que celui du matériau de résine base et chacune de ces nanoparticules est formée d'un noyau de nanoparticule (14), par exemple de métal noble, revêtu d'une couche ou d'une coque (16) d'opercule organique. Cette dernière rend le noyau dispersible dans le matériau de résine entourant la nanoparticule et chimiquement compatible avec celui-ci. Un procédé de fabrication de composition de résine (10) à la sensibilité aux rayons X et aux électrons accrue permet d'obtenir un matériau de résine et des nanoparticules chimiquement inertes dispersées (12) dans la résine. Les nanoparticules possèdent un nombre atomique plus élevé que celui de la résine et possèdent une structure de noyau/coque. On peut fabriquer une composition de résine à la sensibilité aux rayons X et aux électrons accrus grâce à la présence d'un noyau de nanoparticule (14) au nombre atomique plus élevé que celui de la résine qui est revêtue avec une couche d'opercule organique (16). Cette nanoparticule avec la structure de noyau/coque est ensuite dispersée dans le matériau de résine.