METHOD AND SYSTEM FOR TEMPERATURE CONTROL OF A SUBSTRATE

A substrate holder for supporting a substrate in a processing system and controlling the temperature thereof is described. The substrate holder (120) comprises a first heating element (130) positioned in a first region for elevating the temperature of the first region. A second heating elemen (140) positioned in a second region is configured to elevate the temperature in the second region. Furthermore, a first controllably insulating element (150) is positioned below the first heating element, and is configured to control the transfer of heat between the substrate and at least one cooling element (170) positioned therebelow in the first region. A second controllably insulating element (160) is positioned below the second heating element and is configured to control the transfer of heat between the substrate and at least one cooling element positioned therebelow in the second region. L'invention concerne un porte-substrat servant à supporter un substrat dans un système de traitement et à réguler la température de ce dernier. Ledit porte-substrat comprend un premier élément de chauffage positionné dans une première région de façon à augmenter la température de cette dernière. Un deuxième élément de chauffage, positionné dans une deuxième région, est configuré pour augmenter la température de cette dernière. En outre, un premier élément assurant une isolation de manière régulée est positionné sous le premier élément chauffant et configuré de façon à réguler le transfert de chaleur entre le substrat et au moins un élément de refroidissement sous-jacent, situé dans la première région. Un deuxième élément assurant une isolation de manière régulée est positionné sous le deuxième élément de chauffage et configuré de façon à réguler le transfert de chaleur entre le substrat et au moins un élément de refroidissement sous-jacent, situé dans la deuxième région.