POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITIONS HAVING ENHANCED PROCESSING TIME

Novel compositions comprising photoactive polymers comprising a dinitrobenzyl group in conjunction with a photoacid generator are disclosed. In one embodiment, the photoacid generator is a diazide and/or a sulfonyl aceto carbonyl compound. The photoacid generators are typically used in amounts of 10 weight percent or less. The compositions find particular application in storage stable, pH stable, and water stable positive photoresist compositions. Such compositions demonstrate reduced process time as compared with similar compositions lacking the photoacid generator. Methods for using these compositions are also disclosed. L'invention concerne des nouvelles compositions comprenant des polymères photoactifs comprenant un groupe de dinitrobenzoyle en association avec un générateur photoacide. Dans un mode de réalisation, le générateur photoacide est un composé de diazide et/ou un composé de sulfonyle acéto carbonyle. Lesdits générateurs photoacides sont utilisés en général dans des quantités inférieures ou égales à 10 % en poids. Les compositions de l'invention conviennent en particulier à des compositions de résine photosensible positive, stable au stockage, de pH stable et stable à l'eau. Lesdites compositions présentent un temps de processus réduit par rapport à des compositions similaires recouvrant le générateur photoacide. L'invention concerne également des procédés d'utilisation desdites compositions.