COLLECTOR FOR EUV LIGHT SOURCE
A debris removable system (20) for removing a plasma produced residue debris on a reflecting surface (360) of an EUV source (26), which includes a stimulating mechanism (72) for exciting and ionizing the atoms to clean the reflecting surface (360): a collecting mirror (370); a filter (150); and a de...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | A debris removable system (20) for removing a plasma produced residue debris on a reflecting surface (360) of an EUV source (26), which includes a stimulating mechanism (72) for exciting and ionizing the atoms to clean the reflecting surface (360): a collecting mirror (370); a filter (150); and a debris shield (202).
Cette invention concerne un procédé et un dispositif permettant d'évacuer des débris de la surface réfléchissante d'un collecteur d'UV extrêmes (EUV) dans une source EUV, la surface réfléchissante pouvant contenir un premier matériau et les débris un second matériau et/ou des composés du second matériau. Ce système et ce procédé peuvent faire intervenir une source une source d'ions de pulvérisation pouvant renfermer un gaz qui contient lui même des atomes d'ions de pulvérisation ; et un mécanisme de stimulation qui excite ces atomes en un état ionisé, l'état ionisé étant sélectionné pour sa distribution autour d'un pic d'énergie choisi qui présente une probabilité de pulvérisation élevée pour le second matériau et faible pour le premier matériau. Le mécanisme de stimulation peut comprend un dispositif d'induction RF ou à micro-ondes. Le gaz est maintenu à une pression déterminant en partie le pic d'énergie choisi et le mécanisme de stimulation peut créer un flux d'ions de matériau de pulvérisation qui créé une densité de pulvérisation des atomes du second matériau à partir de la surface réfléchissante qui égale ou dépasse l'afflux de d'atome de débris de plasma du second matériau. Le taux de pulvérisation peut être sélectionné pour une durée de vie souhaitée de la surface réfléchissante. La surface réfléchissante peut être recouverte. Le collecteur peut comprendre un miroir elliptique et un écran anti-débris avec canaux radiaux. Le premier matériau peut être du molybdène, le deuxième du lithium et le matériau ionique de l'hélium. Le système peut comporter un chauffage faisant s'évaporer le second matériau de la surface réfléchissante. Le mécanisme de stimulation peut être connecté à la surface réfléchissante pendant les périodes d'allumage. La surface réfléchissante peut comporter des couches écrans. Le collecteur peut être constitué par un miroir sphérique combiné à des coquilles réfléchissantes d'angle d'incidence qui peuvent agir comme un filtre spectral par sélection du matériau en couche pour les empilements multi-couches sur les coquilles réfléchissantes. La pulvérisation peut se fait conjointement avec le chauffage, qui extraient le lit |
---|