AMORPHOUS CARBON FILM FORMING METHOD AND DEVICE
An amorphous carbon film forming device is characterized by comprising a film forming furnace (11), a plurality of work fixing tools (23) which parallelly holds a plurality of plate-like workpieces (22) in a vertically spaced manner with the distance between two adjacent plate-like workpieces (22) b...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; jpn |
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Zusammenfassung: | An amorphous carbon film forming device is characterized by comprising a film forming furnace (11), a plurality of work fixing tools (23) which parallelly holds a plurality of plate-like workpieces (22) in a vertically spaced manner with the distance between two adjacent plate-like workpieces (22) being in the range of 2-30 mm and which are annularly disposed in the furnace chamber of the film forming furnace (11) at equal intervals and are electrically connected to a minus electrode, supply gas supplying nozzles (31, 32), one or more of which are disposed in the centers of the annularly disposed work fixing tools (23), the rest being annularly disposed at equal intervals on the centrifugal side, and a plasma power source (16) connected at least to the work fixing tools (23). Stabilized electric discharge is obtained by operating the plasma power source so that the supply gas pressure range is in 13-1330 Pa and the sheath width is 2-30 mm. Thereby, amorphous carbon films can be efficiently formed at low cost.
L'invention concerne un dispositif de formation d'un film de carbone amorphe qui se caractérise par le fait qu'il comprend un four de formation de film (1), une pluralité d'instruments de fixation de pièce (23) qui maintiennent en parallèle une pluralité de pièces à travailler semblables à une plaque (22) de manière espacée dans le sens vertical, la distance entre deux pièces à travailler adjacentes semblables à une plaque (22) étant de 2 à 30 mm, et qui sont disposés en anneau dans la chambre du four du four de formation de film (11) à des intervalles égaux et sont électriquement reliée à une électrode négative, des buses d'alimentation en gaz d'alimentation (31, 32), au moins une d'entre elles étant placée dans les centres des instruments de fixation de pièce disposés en anneau (23), le reste étant disposé en anneau à des intervalles égaux sur le côté centrifuge, et une source de puissance au plasma (16) reliés au moins aux instruments de fixation de pièce (23). Une décharge électrique stabilisée est obtenue grâce au fonctionnement de la source de puissance au plasma afin que la pression du gaz d'alimentation soit comprise entre 13 et 1330 Pa et la largeur de gaine entre 2 et 30 mm. Par conséquent, des films de carbone amorphes peuvent être efficacement formés à un coût faible. |
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