WAFER HANDLING APPARATUS

A wafer processing device or apparatus, i.e., a heater or an electrostatic chuck, comprises a planar support platen, a support shaft having centrally located bore, and a pair of electrical conductors located in the shaft. In one embodiment, the electrical conductors are concentrically located within the bore of the shaft, with the first electrical lead being in the form of a pyrolytic graphite rod and separated from the outer second graphite electrical lead by means of a pyrolytic boron nitride (pBN) coating. In a second embodiment, the support platen and the support shaft are formed from a single unitary body of graphite. In yet another embodiment of the device of the invention, the connection posts comprise a carbon fiber composite and the exposed ends of the electrical connectors are coated with a protective ceramic paste for extended life in operations. L'invention concerne un dispositif ou appareil de traitement de plaquettes, c'est-à-dire, un appareil de chauffage ou un mandrin électrostatique, comprenant un plateau de support plan, un axe de support ayant un alésage situé au centre, ainsi qu'une paire de conducteurs électriques situés dans l'axe. Dans un mode de réalisation, les conducteurs électriques sont placés de façon concentrique à l'intérieur de l'alésage de l'axe, le premier conducteur électrique se présentant sous la forme d'une tige en graphite pyrolytique et étant séparé du second conducteur électrique en graphite extérieur au moyen d'un revêtement en nitrure de bore pyrolytique (pBN). Dans un second mode de réalisation, le plateau de support et l'axe de support sont constitués d'un seul corps unitaire en graphite. Dans encore un autre mode de réalisation du dispositif de l'invention, les pointes de connexion comprennent un composite en fibre de carbone et les extrémités à nu des connecteurs électriques sont revêtues d'une pâte céramique protectrice pour prolonger leur durée de vie de fonctionnement.