YIELD IMPROVEMENT
An integrated circuit is designed to improve yield when manufacturing the integrated circuit, by obtaining a design element from a set of design elements used in designing integrated circuits. A variant design element is created based on the obtained design element, where a feature of the obtained d...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | An integrated circuit is designed to improve yield when manufacturing the integrated circuit, by obtaining a design element from a set of design elements used in designing integrated circuits. A variant design element is created based on the obtained design element, where a feature of the obtained design element is modified to create the variant design element. A yield to area ratio for the variant design element is determined. If the yield to area ratio of the variant design element is greater than a yield to area ratio of the obtained design element, the variant design element is retained to be used in designing the integrated circuit
L'invention concerne un circuit intégré conçu pour améliorer le rendement lors de la fabrication du circuit intégré, permettant d'obtenir un élément structural à partir d'un ensemble d'éléments structuraux utilisés lors de la conception de circuits intégrés. L'invention concerne également un procédé de conception de circuits intégrés consistant à créer une variante d'un élément structural sur la base de l'élément structural obtenu, en modifiant une caractéristique de l'élément structural obtenu, puis à déterminer un rapport du rendement à la surface pour la variante de l'élément structural. Si le rapport du rendement à la surface pour la variante de l'élément structural est supérieur à un rapport du rendement à la surface de l'élément structural obtenu, c'est la variante de l'élément structural qui est retenue pour la conception du circuit intégré. |
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