SEMICONDUCTOR PRODUCING DEVICE USING MINI-ENVIRONMENT SYSTEM

In a semiconductor producing device using a mini- environment system, the open air is prevented from entering through a clearance between the opening in the semiconductor producing device and the wafer gateway in a closed vessel to prevent dust from adhering to the wafer in the closed vessel. A clea...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KOUCHIYAMA, SHIGERU, UENO, KOUTA, OKADA, MAKOTO, KISAKIBARU, TOSHIROU
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:In a semiconductor producing device using a mini- environment system, the open air is prevented from entering through a clearance between the opening in the semiconductor producing device and the wafer gateway in a closed vessel to prevent dust from adhering to the wafer in the closed vessel. A clearance (96) is defined between the gateway (74) of a closed vessel (71) for taking in and out wafers (73), and the opening (98) in a loading section (78) attached to the front surface plate (77) of a semiconductor producing device (76). A clean air spouting device (1) is connected to an air feed device (2) by an air feed tube (3) and has a filter means (6a) connected to a cylindrical filter (10) in the manner of a quadrangular frame. The clean air spouting device (1) spouts clean air to the clearance (96) to form an air curtain that, when the lid (75) of the closed vessel (71) is opened inwardly of the semiconductor producing device (76), shuts off the open air that would otherwise pass through the clearance (96) between the gateway (74) of the closed vessel (71) and the opening (98) in the loading section (78) attached to the semiconductor producing device (76) into the closed vessel (71). Dans un dispositif de production de semi-conducteur utilisant un système mini-environnement, on évite que l'air entre à travers un espace entre l'ouverture dont le dispositif de production de semi-conducteur et la passerelle de tranche dans un récipient fermé afin d'éviter que la poussière ne colle à la tranche dans le récipient fermé. Un espace (96) est défini entre la passerelle (74) du récipient fermé (71) pour entrer et sortir les tranches (73) et l'ouverture (98) pratiquée dans une section de charge (78) fixée à la plaque de surface avant (77) d'un dispositif de production de semi-conducteur (76). Un dispositif soufflant de l'air propre (1) est relié à un dispositif d'alimentation d'air (2) au moyen d'un tube d'alimentation (3) et présente des moyens filtres (6a) reliés à un filtre cylindrique (10) formant un cadre quadrangulaire. Le dispositif (1) souffle de l'air propre vers l'espace (96) afin de former un rideau d'air qui, lorsque le couvercle (75) du récipient fermé (71) est ouvert vers l'intérieur du dispositif de production de semi-conducteur (76), bloque l'air qui traverserait sinon l'espace (96) entre la passerelle (74) du récipient fermé (71) et l'ouverture (98) pratiquée dans la section de charge (78) fixée au dispositif de semi-conducteur (76) dans le récipient