PHOTOMASK AND METHOD FOR CREATING A PROTECTIVE LAYER ON THE SAME

A photomask and method for creating a protective layer on the photomask are disclosed. The method includes placing a photomask including a patterned layer formed on at least a portion of a substrate in a chamber. Oxygen is introduced into the chamber proximate the patterned layer and the photomask i...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	CHOVINO, CHRISTIAN, DIEU, LAURENT
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR,STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A photomask and method for creating a protective layer on the photomask are disclosed. The method includes placing a photomask including a patterned layer formed on at least a portion of a substrate in a chamber. Oxygen is introduced into the chamber proximate the patterned layer and the photomask is exposed to radiant energy that initiates a reaction between the oxygen and the patterned layer in order to passivate the patterned layer and prevent optical properties of the patterned layer from being altered by a cleaning process. L'invention concerne un photomasque et un procédé de formation d'une couche protectrice sur ce photomasque. Le procédé consiste à placer un photomasque comprenant une couche à motif formée sur une partie au moins d'un substrat dans une chambre. De l'oxygène est introduit dans la chambre au voisinage de la couche à motif, le photomasque étant exposé à une énergie de rayonnement déclenchant une réaction entre l'oxygène et la couche à motif de sorte à passiver la couche à motif et à empêcher l'altération des propriétés optiques de cette couche à motif lors d'une opération de nettoyage.