DEVICE AND METHOD FOR DETECTING STRESS MIGRATION PROPERTIES

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Erfassung von Stressmigrations-Eigenschaften eines in einem produktrelevanten Gehäuse (G) endmontierten Halbleiter-Bausteins (IC) mit einer Stressmigrations-Teststruktur (SMT), die im Halbleiter-Baustein (IC) ausgebildet ist. Zur Erhöhung...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: VON GLASOW, ALEXANDER, VON HAGEN, JOCHEN, FISCHER, ARMIN
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
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