HIGH PURITY ONDANSETRON HYDROCHLORIDE DIHYDRATE AND PROCESS FOR ITS SYNTHESIS

The invention relates to high purity ondansetron hydrochloride dihydrate containing not more than 0.10 w/w % chemical impurities as well as to the process for its synthesis. L'invention concerne un dihydrate d'hydrochlorure d'ondansetron extrêmement pur ne contenant pas plus de 0,10 %...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	TERDY, LASZLO, WERKNE PAPP, EVA, HEGEDUS, ISTVAN, TOTH, GEZA, CZIBULA, LASZLO, DOBAY, LASZLO, NAGYNE BAGDY, JUDIT, DEUTSCHNE JUHASZ, IDA, UEBERHARDT, TAMASNE, OLAH, RUBEN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:	The invention relates to high purity ondansetron hydrochloride dihydrate containing not more than 0.10 w/w % chemical impurities as well as to the process for its synthesis. L'invention concerne un dihydrate d'hydrochlorure d'ondansetron extrêmement pur ne contenant pas plus de 0,10 % en poids d'impuretés chimiques, ainsi que la méthode servant à en effectuer la synthèse.