DETECTION AND MAKING OF ULTRALOW LEAD CONTAMINATED UV OPTICAL FLUORIDE CRYSTALS FOR < 200 NM LITHOGRAPHY

The invention provides a method of detecting sub-ppm lead impurity levels in a below 200 nm transmitting optical calcium fluoride crystal. The method includes providing a below 200 nm wavelength transmitting optical calcium fluoride crystal (20), providing a fluorescence spectrometer (22) having a light source (24) for producing a 100 to 210 nm selectable wavelength incident radiation and a detector (28) for detecting excited luminescence light in the wavelength range of 210-260 nm produced by the incident radiation, exciting a first luminescence area of the crystal with the 200 to 210 nm selectable wavelength incident radiation and detecting with the detector excited 210 to 260 luminescence light produced from the crystal luminescence area by the 200 to 210 incident radiation to provide a lead ppb impurity level measurement less than 100 ppb. The invention provides for improved manufacturing of below 200 nm wavelength optical elements and optical fluoride crystals such as ultralow lead contaminated calcium fluoride. L'invention concerne un procédé de détection de niveaux d'impuretés sub-ppm du plomb dans un cristal optique à base de fluorure de calcium émettant à une longueur d'onde inférieure à 200 nm. Le procédé consiste à: mettre en oeuvre un cristal optique à base de fluorure de calcium émettant à une longueur d'onde inférieure à 200 nm; mettre en oeuvre un spectromètre de fluorescence présentant une source optique apte à produire un rayonnement incident à longueur d'onde sélectable dans la plage comprise entre 200 et 210 nm, et un détecteur pour détecter une lumière luminescente excitée dans la plage de longueur d'onde de 210 à 260 nm produite par le rayonnement incident; exciter une première zone luminescente du cristal avec un rayonnement incident à longueur d'onde sélectable dans la plage des 200 à 210 nm et détecter, au moyen du détecteur, la lumière luminescente excitée dans la plage de longueur d'onde de 210 à 260 nm produite à partir de la zone de luminescence du cristal par le rayonnement incident dans la plage comprise entre 200 et 210 nm afin de produire une mesure du niveau d'impureté ppM du plomb inférieur à 100 ppM. L'invention concerne en outre un procédé amélioré de fabrication d'éléments optiques à longueur d'onde inférieure à 200 nm et des cristaux optiques à base de fluorure de calcium, tels qu'un fluorure de calcium à très faible contamination par le plomb.