ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD AND SYSTEM THEREFOR

A method of guiding an electron beam (22) emitted from an electron emission source (14) to a photosensitive sample (12) through an opening provided in a stencil mask (18) and exposing it, the method comprising keeping an electron beam under a low-speed-traveling low electric field strength until the beam reaches the opening in the stencil mask, and then keeping the electron beam passed through the opening in the stencil mask under a high-speed-traveling high electric field strength. An electron beam exposure system comprising an electron emission source, a stencil mask having an opening for allowing an electron beam emitted from the electron emission source to pass therethrough, a support table (16) for supporting an exposure sample, a device for keeping an electron beam under a low electric field strength, and a high electric field generation device for keeping it under a high electric field strength. L'invention concerne un procédé de guidage d'un faisceau électronique (22) émis à partir d'une source d'émission d'électrons (14) en direction d'un échantillon photosensible (12), à travers une ouverture managée dans un masque stencil (18) et d'exposition de celui-ci. Le procédé consiste à maintenir un faisceau électronique sous une intensité de champ électrique faible à faible vitesse de déplacement jusqu'au moment où le faisceau atteint l'ouverture dans la masque stencil, puis à maintenir le faisceau électronique passé à travers l'ouverture dans le masque stencil sous une intensité de champ électrique élevée à vitesse de déplacement élevée. L'invention concerne également un système d'exposition à un faisceau électronique comprenant une source d'émission d'électrons, un masque stencil possédant une ouverture permettant à un faisceau électronique émis à partir de la source d'émission d'électrons de passer à travers celle-ci, une table support (16) permettant de supporter un échantillon d'exposition, un dispositif permettant de maintenir un faisceau électronique sous une intensité de champ électrique faible et un dispositif de génération de champ électrique élevé permettant de le maintenir sous une intensité de champ électrique élevée.