A METHOD AND AN ARRANGEMENT TO DETERMINE A RUNNING VALUE OF THE GAP DURING THE ELECTROCHEMICAL MACHINING

A method and an arrangement (1) for determining an actual value of the gap (4) between the work piece (2) and the electrode (3) during a process of electrochemical machining. According to the invention first process control means (30) are arranged to supply a set of machining current pulses (Im) to...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KUCENKO, VIKTOR, N, GIMAEV, NASICH, Z, AGAFONOV, IGOR, L, BELOGORSKY, ALEKSANDR, L, ZAJCEV, ALEXANDR, N, MUCHUTDINOV, RAFAIL, R
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A method and an arrangement (1) for determining an actual value of the gap (4) between the work piece (2) and the electrode (3) during a process of electrochemical machining. According to the invention first process control means (30) are arranged to supply a set of machining current pulses (Im) to the electrode and the work piece. Second process control means (32) are arranged to perform a measurement of an operational parameter (U) representing a value of the gap (4) in real time under operational conditions. The second process control means (32) comprise means to determine the actual value of the gap (55a) based on the measurement of the operational parameter and logical unit (55b) to actuate the positioning means (8) to translate the electrode (3) in case the measured value of the gap deviates from the preset value of the gap. L'invention concerne un procédé et un agencement (1) permettant de déterminer la valeur réelle d'un espace (4) entre une pièce à usiner (2) et une électrode (3) pendant un processus d'usinage électrochimique. Selon l'invention, un premier organe de commande de processus (30) est agencé afin de fournir un ensemble d'impulsions de courant d'usinage (Im) à l'électrode et à la pièce. Un second organe de commande de processus (32) est agencé afin de mesurer un paramètre opérationnel (U) représentant une valeur de l'espace (4) en temps réel dans des conditions de fonctionnement. Le second organe de commande de processus (32) comprend un organe permettant de déterminer la valeur réelle de l'espace (55a) en fonction de la mesure du paramètre opérationnel et une unité logique (55b) destinée à actionner un organe de positionnement (8) afin de translater l'électrode (3) dans le cas où la valeur mesurée de l'espace dévie de la valeur prédéterminée de cet espace.