TECHNIQUE FOR WRITING WITH A RASTER SCANNED BEAM

Provided is a technique for generating patterns with a raster scanned beam in a photolithographic system that employs a multiple blank position flash cycle. In accordance with one embodiment of the present invention, a beam creates a shadow of a first aperture that impinges upon a region of a stop, referred to as a first blank position. The beam is deflected so that the shadow of the first aperture moves along a first direction to a flash position, in which a portion thereof superimposes a second aperture located in the stop. To complete the flash cycle, the beam is deflected so that shadow of the first aperture impinges upon a second region of the stop, referred to as a second blank position. As a result, during the flash cycle, the beam is deflected in one direction to impinge upon two different blank positions. L'invention concerne une technique destinée à produire des motifs au moyen d'un faisceau à balayage récurrent dans un système photolithographique utilisant un cycle de projection à positions de blanc multiples. Selon un mode de réalisation de la présente invention, un faisceau crée une ombre d'une première ouverture chevauchant une zone d'un élément d'arrêt désignée sous le nom de première position de blanc. Le faisceau est dévié de façon que l'ombre de première ouverture se déplace dans un premier sens en direction d'une position de projection dans laquelle une partie correspondante se superpose à une seconde ouverture située dans l'élément d'arrêt. Pour compléter le cycle de projection, le faisceau est dévié de façon que l'ombre de première ouverture chevauche une seconde zone de l'élément d'arrêt désignée sous le nom de seconde position de blanc. Par conséquent, pendant le cycle de projection, le faisceau est dévié dans un sens de manière à chevaucher deux positions de blanc différentes.