IMAGING DEVICE IN A PROJECTION EXPOSURE FACILITY

Eine Abbildungseinrichtung (7) in einer Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Mikrolithographie hat wenigstens ein optisches Element (10, 33, 34) und wenigstens einen einen Linearantrieb (11) aufweisenden Manipulator (9, 36, 41) zur Manipulation der Position des optischen Elementes (10, 33, 34)....

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	RIEF, KLAUS, SCHOENGART, STEFAN, RASSEL, THORSTEN, RAOUL, REINER, HOLDERER, HUBERT, LIPPERT, JOHANNES, FISCHER, JUERGEN, MUEHLBEYER, MICHAEL, NEUMAIER, MARKUS, MERZ, ERICH, WEBER, ULRICH, WEBER, JOCHEN, HUMMEL, WOLFGANG, AUBELE, KARL-EUGEN, TROSSBACH, BAERBEL, KOHL, ALEXANDER
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre ; ger
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR BASIC ELECTRIC ELEMENTS CINEMATOGRAPHY ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Eine Abbildungseinrichtung (7) in einer Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Mikrolithographie hat wenigstens ein optisches Element (10, 33, 34) und wenigstens einen einen Linearantrieb (11) aufweisenden Manipulator (9, 36, 41) zur Manipulation der Position des optischen Elementes (10, 33, 34). Der Linearantrieb (11) weist einen angetriebenen Teilbereich (14) und einen nicht angetriebenen Teilbereich (15) auf, welche relativ zueinander in Richtung einer Bewegungsachse (17) beweglich sind. Die Teilbereiche (14, 15) sind über Funktionselemente (18) mit einer Wirkungsachse (17) und über Funktionselemente (19) mit einer Wirkungsrichtung wenigstens annähernd parallel zur Bewegungsachse (17) zumindest zeitweise miteinander verbunden. Disclosed is an imaging device (7) in a projection exposure facility (1) used in microlithography, comprising at least one optical element (10, 33, 34) and at least one manipulator (9, 36, 41) provided with a linear drive (11) for manipulating the position of the optical element (10, 33, 34). The linear drive (11) encompasses a driven section (14) and a non-driven section (15) which are movable towards each other along an axis (17). The two sections (14, 15) are at least temporarily connected to each other at least approximately parallel to the axis of movement (17) via functional elements (18) operable along an axis (17) and via functional elements (19) operable in one direction. L'invention concerne un dispositif de reproduction (7) disposé dans une installation de gravure par projection (1) à des fins de microlithographie, comportant au moins un élément optique (10, 33, 34) et au moins un manipulateur (9, 36, 41) pourvu d'un entraînement linéaire (11) et conçu pour influer sur la position de l'élément optique (10, 33, 34). Cet entraînement linéaire (11) comprend une section entraînée (14) et une section non entraînée (15) lesquelles se déplacent l'une par rapport à l'autre en direction d'un axe de mouvement (17). Lesdites sections (14, 15) sont reliées l'une à l'autre au moins temporairement par l'intermédiaire d'éléments fonctionnels (18) présentant une direction d'action au moins approximativement perpendiculaire à l'axe de mouvement (17) et par l'intermédiaire d'éléments fonctionnels (19) présentant une direction d'action au moins approximativement parallèle à cet axe de mouvement (17).