CHEMICAL VAPOR DEPOSITION VAPORIZER

A Chemical Vapor Deposition (CVD) vaporizer comprising: a liquid supply assembly (102) having an environment supporting a liquid state for a plurality of precursor components of a liquid precursor blend (114); a venturi (112) operative to atomize said liquid precursor blend; a vaporization chamber (106), located proximate to said liquid supply assembly and said venturi, having an environment supporting a vapor state (148) for said plurality of precursor components; and a thermal barrier (104) located between said liquid supply assembly and said vaporization chamber enabling preservation of a substantial temperature disparity between said liquid supply assembly and said proximately located vaporization chamber. La présente invention concerne un vaporiseur pour dépôt chimique en phase vapeur qui comprend: un ensemble alimentation de liquide (102) possédant un environnement supportant un état liquide d'une pluralité de composants précurseurs d'un mélange (114) de précurseurs liquide, un tube de venturi (112) destiné à atomiser ce mélange de précurseurs liquide, une chambre de vaporisation (106) située à proximité de cet ensemble alimentation de liquide et de ce tube de venturi possédant un environnement supportant un état vapeur (148) de cette pluralité de composants précurseurs, et une barrière thermique (104) située entre cet ensemble alimentation de liquide et cette chambre de vaporisation permettant de préserver une disparité de température sensible entre l'ensemble alimentation de liquide et la chambre de vaporisation située à proximité de celui-ci.