HIGH RESOLUTION PATTERNING METHOD

This invention relates to a method of forming high resolution patterns of material on a substrate by way of catalytic reactions. There are many types of catalytic reaction, such as for example autocatalytic coating reactions, that take place over the surface of a substrate material and such reaction...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: JOHNSON, DANIEL, ROBERT, KYNASTON-PEARSON, ANTHONY, WILLIAM, NIGEL, DAMERELL, WILLIAM, NORMAN
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:This invention relates to a method of forming high resolution patterns of material on a substrate by way of catalytic reactions. There are many types of catalytic reaction, such as for example autocatalytic coating reactions, that take place over the surface of a substrate material and such reactions can be used to increase the rate of or activate reactions in gas, liquid or solid environments. Generally in such reactions the catalytic material used is either applied to or is effective over the whole of the substrate material and as a consequence the reaction takes place over the whole of the substrate. Therefore if the reaction in only required to take place over part of the surface of the substrate then additional processes such as etching or photolithography need to take place. These add to the complexity of the reaction, have cost implications and also result in wasted material. It is therefore an object of the present invention to provide a method of preparing a substrate material such that it is capable of initiating a catalytic reaction over a predetermined area of its surface that alleviates some of the above-mentioned disadvantages. L'invention concerne un procédé de formation de structures haute résolution dans un matériau sur un substrat au moyen de réactions catalytiques. Il existe de nombreux types de réactions catalytiques, par exemple des réactions autocatalytiques de revêtement, qui se déroulent à la surface d'un matériau substrat et ces réactions peuvent être utilisées afin d'augmenter la vitesse de réaction, ou activer la réaction, dans des environnements gazeux, liquide ou solide. En général, dans de telles réactions, le matériau catalytique utilisé est soit appliqué sur le matériau substrat, soit efficace sur la totalité de ce matériau et en conséquence la réaction se déroule sur la totalité du substrat. Donc si l'on souhaite que la réaction ne se déroule que sur une partie du substrat, alors des processus additionnels, tels que gravure ou photolithographie, doivent être mis en oeuvre. Ces processus s'ajoutent à la complexité de la réaction, ont une répercussion sur le coût et conduisent à un gaspillage de matériau. L'invention concerne donc, dans un mode de réalisation, un procédé de préparation de matériau substrat de façon qu'il puisse initier une réaction catalytique sur une zone déterminée de sa surface, permettant ainsi de remédier aux désavantages préalablement décrits.