COMPACT MULTISPECTRAL X-RAY SOURCE

An X-radiation source can comprise an electron emission layer and an anode layer. In an embodiment the anode layer may be no more than approximately 1000 microns from the emission layer or include an anode region that laterally surrounds a hole extending through the anode layer. In one embodiment, a plurality of electron emission tips, extraction gate electrodes and anode regions may be used. When the anode regions comprise different materials, a plurality of wavelengths may be emitted. In another embodiment, a monolithic structure can be formed using processing operations similar to those used in conventional semiconductor device manufacturing. The X-radiation source can be relatively small and may have uses in applications with confined spaces, such as medical applications. L'invention concerne une source de rayons X, qui peut comprendre une couche d'émission d'électrons et une couche anodique. Dans un mode de réalisation, la couche anodique peut être placée à environ 1000 microns au plus de la couche d'émission, ou présenter un domaine anodique entourant latéralement un trou qui traverse la couche anodique. Dans un mode de réalisation, plusieurs pointes d'émission d'électrons, gâchettes d'extraction et domaines anodiques peuvent être utilisés. Lorsque les domaines anodiques comprennent différents matériaux, plusieurs longueurs d'onde peuvent être émises. Dans un autre mode de réalisation, une structure monolithique peut être formée par des opérations de traitement similaires à celles mises en oeuvre dans la fabrication classique de dispositifs à semi-conducteurs. La source de rayons X peut être relativement petite et s'utiliser dans des applications en espaces clos, telles que des applications médicales.