COMPOSITIONS CONTAINING A LOW SURFACE TENSION (METH)ACRYLATE CONTAINING BLOCK COPOLYMER

A composition including a block copolymer that includes a first block of residues of a first low surface tension (meth)acrylate monomer, a second block containing residues of a second radically polymerizable ethylenically unsaturated monomer that is free of hydroxyl groups and amine groups, and, opt...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: GOETZ, JONATHAN, D, COCA, SIMION, SMITH, JOANNE, H, BARKAC, KAREN, A, HUMBERT, KURT, A, SCHIMMEL, KARL, F
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:A composition including a block copolymer that includes a first block of residues of a first low surface tension (meth)acrylate monomer, a second block containing residues of a second radically polymerizable ethylenically unsaturated monomer that is free of hydroxyl groups and amine groups, and, optionally, a third block containing residues of a third radically polymerizable ethylenically unsaturated monomer that is free of hydroxyl groups and amine groups. The block copolymer is prepared by controlled radical polymerization and has a polydispersity index of less than 2.5. The composition may further include a first reactant having functional groups and a second reactant having functional groups that are coreactive with the functional groups of the first reactant. The composition may be a thermosetting composition where the block copolymer is present as a flow control agent. La présente invention concerne une composition comprenant un copolymère séquencé qui présente une première séquence de résidus d'un premier monomère de (méth)acrylate à faible tension superficielle, une deuxième séquence contenant des résidus d'un deuxième monomère éthyléniquement insaturé, pouvant subir une polymérisation radicalaire et exempt de groupes hydroxyle et de groupes amine, ainsi que, éventuellement, une troisième séquence contenant des résidus d'un troisième monomère éthyléniquement insaturé, pouvant subir une polymérisation radicalaire et exempt de groupes hydroxyle et de groupes amine. Ce copolymère séquencé est préparé par polymérisation radicalaire commandée et présente un indice de polydispersité inférieur à 2,5. La composition peut également comprendre un premier réactif qui présente des groupes fonctionnels et un second réactif qui présente des groupes fonctionnels réagissant avec les groupes fonctionnels du premier réactif. La composition selon cette invention peut être une composition thermodurcissable dans laquelle le copolymère séquencé sert d'agent de régulation de flux.