METHODS AND APPARATUS FOR CONTROLLING AN AMOUNT OF A CHEMICAL CONSTITUENT OF AN ELECTROCHEMICAL BATH

An automated chemical management system (100) for managing the chemicalcontent of an electrochemical bath used to deposit a material on the surface of a microelectronic workpiece is set forth. The automated chemical management system includes a dosing system that is adapted to dose an amount of one...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: FULTON, DAKIN, RITZDORF, THOMAS, L
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:An automated chemical management system (100) for managing the chemicalcontent of an electrochemical bath used to deposit a material on the surface of a microelectronic workpiece is set forth. The automated chemical management system includes a dosing system that is adapted to dose an amount of one or more chemicals to replenish a given electrochemical bath constituent in accordance with a predetermined dosing equation. The chemical management system also includes an analytical measurement system (122) that is adapted to provide a measurement result indicative of the amount of the given constituent in the electrochemical bath at predetermined time intervals. The chemical management system uses the measurements results to modify the dosing equation of the dosing system. In this manner, the replenishment operations executed by the chemical management system are effetively refined over time thereby providing more accurate control of the amount of the target contituent in the electrochemical bath. La présente invention concerne un système de gestion automatisé (100) des constituants chimiques qui gère la teneur en constituants chimiques d'un bain électrochimique utilisé pour déposer une matière à la surface d'un élément microélectronique. Le système de gestion automatisé des constituants chimiques comprend un système de dosage qui est adapté pour doser une quantité d'un ou plusieurs produits chimiques afin de régénérer un constituant de bain électrochimique donné conformément à une équation de dosage prédéterminée. Le système de gestion des constituants chimiques comprend également un système de mesure analytique (122) qui est prévu pour produire un résultat de la mesure qui indique la quantité du constituant donné dans le bain électrochimique à des intervalles de temps prédéterminés. Le système de gestion des constituants chimiques utilise les résultats des mesures pour modifier l'équation de dosage du système de dosage. De cette manière, les opérations de régénération exécutées par le système de gestion des constituants chimiques sont efficacement perfectionnées et affinées au fil du temps, ce qui permet de contrôler avec une plus grande précision la quantité du constituant cible dans le bain électrochimique.