DEVICE FOR AND METHOD OF MATERIAL ANALYSIS USING A SHUTTER COMPRISING A CALIBRATION SAMPLE

A device (1; 1a) for the examination of at least one material sample (3; 3a, 3b, 3c) which can be inserted into the device (1; 1a) and is irradiated by means of electromagnetic waves (4), notably X-rays; in the measuring position the material sample (3; 3a, 3b, 3c) can be subjected to irradiation by means of the electromagnetic waves (4) and during a change of sample the beam path (4) can be interrupted by means of a closure element (8) which can be moved into the beam path. The device is constructed in such a manner that the closure element (8) is provided with a reference sample (9) on its side which faces the rays (4) in a manner such that a reference measurement can be performed thereon during a change of sample. L'invention concerne un dispositif (1; 1a) permettant d'examiner au moins un échantillon (3; 3a, 3b, 3c) de matériau. L'échantillon est introduit dans le dispositif (1; 1a) où il est irradié par des ondes (4) électromagnétiques, notamment par des rayons X. Dans la position de mesure, l'échantillon (3, 3a, 3b, 3c) peut être soumis à une irradiation par des ondes (4) électromagnétique et pendant le remplacement de l'échantillon, la trajectoire (4) du faisceau peut être interrompue au moyen d'un élément (8) d'obturation qui peut être avancé sur la trajectoire du faisceau. Ce dispositif est construit de telle manière que l'élément (8) d'obturation comprend un échantillon (9) de référence sur sa face situé du côté des faisceaux (4), ce qui permet d'effectuer une mesure de référence pendant le changement d'échantillon.