METHOD OF MAKING LIGHT TRANSMITTING OPTICAL FLUORIDE CRYSTALS

The invention relates to optical fluoride crystals, and particularly to optical fluoride crystals (20) such as calcium fluoride, which have high transmission levels to below 200nm light, such as produced by excimer lasers. In particular the invention relates to making optical fluoride crystals with improved transmission surfaces (23). The invention relates to the elimination of mid-spatial frequency roughness 1-1000 um spatial wavelengths and high-spatial frequency < 1 um spatial wavelengths from optical fluoride crystal surfaces. The removal of the mid-spatial frequency 1-1000 um spatial wavelengths and high-spatial frequency < 1 um spatial wavelengths from the optical fluoride crystal surfaces provides improved transmission at below 200nm optical lithography wavelengths such as 193nm and 157nm. The invention includes final finished optical fluoride crystals (20) having final finish high optical transmission surfaces (22) free of mid-spatial frequency roughness 1-1000 um spatial wavelengths and high-spatial frequency roughness 1-1000 um spatial wavelengths and high-spatial frequency roughness < 1 um spatial wavelengths with high transmission at wavelengths < 200nm. L'invention concerne des cristaux optiques de fluorure, et particulièrement des cristaux optiques de fluorure (20), notamment de fluorure de calcium, possédant des niveaux de transmission élevés jusqu'à des longueurs d'ondes inférieures à 200 nm, telles que produites par des lasers à excimères. Elle concerne particulièrement la fabrication de cristaux optiques de fluorure possédant des surfaces de transmission améliorées (23). Elle concerne encore l'élimination de longueurs d'ondes de 1-1000 mu m de rugosité de fréquence spatiale moyenne et de longueurs d'ondes < 1 mu m de rugosité de fréquence spatiale élevée des surfaces de cristaux optiques de fluorure. L'élimination de longueurs d'ondes de 1-1000 mu m de rugosité de fréquence spatiale moyenne et de longueurs d'ondes < 1 mu m de rugosité de fréquence spatiale élevée des surfaces de cristaux optiques de fluorure permet d'obtenir une transmission améliorée à des longueurs d'ondes de lithographie optique inférieures à 200 nm, notamment à 193 nm et 157 nm. L'invention concerne aussi les cristaux optiques de fluorures terminés (20) possédant des surfaces finales à transmission optique élevée (22) sans longueurs d'ondes de 1-1000 mu m de rugosité de fréquence spatiale moyenne, de longueurs d'ondes de 1-1000 mu m de rugosité de fréquence spatiale é