NEW AMORPHOUS FE-BASED ALLOYS CONTAINING CHROMIUM
The present invention provides new amorphous Fe-based alloys of the formula FeaCrbNicMdBeSifPk , where M is at least one metal selected from the group consisting of Mn, Co, Mo, Nb, Hf, W, Zr, V and Al, where the sum a+b+c+d+e+f+k is essentially 100, wherein a ranges from about 40 to about 75 atomic...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | The present invention provides new amorphous Fe-based alloys of the formula FeaCrbNicMdBeSifPk , where M is at least one metal selected from the group consisting of Mn, Co, Mo, Nb, Hf, W, Zr, V and Al, where the sum a+b+c+d+e+f+k is essentially 100, wherein a ranges from about 40 to about 75 atomic %, b ranges from about 3 to about 14 atomic %, c ranges from zero to about 40% atomic %, d ranges from zero to about 20 atomic %, e ranges from about 5 to about 15 atomic %, f ranges from about 3 to about 10 atomic % and k ranges from about 0.1 to about 5 atomic %. The alloys of the invention are characterized by having low coercivity, high squareness, and high permeability, which implement their use in the production of markers in EAS systems or in the production of magnetic amplifiers.
La présente invention concerne de nouveaux alliages amorphes à base de fer représenté par la formule FeaCrbNicMdBeSifPk. Dans cette formule, M représente au moins un métal pris dans le groupe comprenant Mn, Co, Mo, Nb, Hf, W, Zr, V et Al, la somme de a+b+c+d+e+f+k vaut sensiblement 100, a représente de 40 à 75 atomes % environ, b de 3 à 14 atomes % environ, c 0 à 40 atomes % environ, d de 0 à 20 atomes % environ, e de 5 à 15 atomes % environ, f de 3 à 10 atomes % environ, et k de 0,1 à 5 atomes % environ. Les alliages selon l'invention, qui se caractérisent par une faible coercivité, une rectangularité élevée et une forte perméabilité, conviennent donc pour la fabrication de marqueurs pour systèmes électroniques de surveillance ou d'amplificateurs magnétiques. |
---|