METAL CATALYST TECHNIQUE FOR TEXTURING SILICON SOLAR CELLS

Textured silicon solar cells and techniques for their manufacture utilizing metal sources to catalyze formation of randomly distributed surface features such as nanoscale pyramidal and columnar structures. These structures include dimensions smaller than the wavelength of incident light, thereby res...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: RUBY, DOUGLAS, S, ZAIDI, SALEEM, HUSSAIN
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Textured silicon solar cells and techniques for their manufacture utilizing metal sources to catalyze formation of randomly distributed surface features such as nanoscale pyramidal and columnar structures. These structures include dimensions smaller than the wavelength of incident light, thereby resulting in a highly effective anti-reflective surface. According to the invention, metal sources present in a reactive ion etching chamber permit impurities (e.g. metal particles) to be introduced into a reactive ion etch plasma resulting in deposition of micromasks on the surface of a substrate to be etched. Separate embodiments are disclosed including one in which the metal source includes one or more metal-coated substrates strategically positioned relative to the surface to be textured, and another in which the walls of the reaction chamber are pre-conditioned with a thin coating of metal catalyst material. Cette invention se rapporte à des piles solaires en silicium texturées et à des techniques pour leur fabrication, qui utilisent des sources métalliques pour catalyser la formation de motifs de surface aléatoirement répartis, tels que des structures en pyramide et en colonne à nanoéchelle. Ces structures ont des dimensions inférieures à la longueur d'onde de la lumière incidente, ce qui permet d'obtenir une surface antiréfléchissante hautement efficace. Selon cette invention, les sources métalliques présentes dans une chambre de gravure ionique réactive permettent d'introduire des impuretés (par exemple des particules métalliques) dans un plasma de gravure ionique réactive, ce qui entraîne le dépôt de micromasques sur la surface d'un substrat à graver. Parmi les divers modes de réalisation décrits, l'un d'eux utilise une source métallique qui contient un ou plusieurs substrats recouverts de métal placés dans des positions stratégiques par rapport à la surface devant être texturée et un autre utilise pour la chambre de réaction des parois qui sont préconditionnées avec un fin revêtement d'un matériau catalyseur métallique.