FOUR KHz GAS DISCHARGE LASER

The present invention provides an excimer laser capable of producing a high quality pulsed laser beam at pulse rates of about 4,000 Hz at pulse energies of about 5mJ or greater. A preferred embodiments is an ArF excimer laser specifically designed as a light source for integrated circuit lithography. An improved wavemeter with special software monitors output beam parameters and controls a very fast PZT driven tuning mirror and the pulse power charging voltage to maintain wavelength and pulse energy within desired limits. In a preferred embodiment two fan motors drive a single tangential fan which provides sufficient gas flow to clear discharge debris from the discharge region during the approximately 0.25 milliseconds between pulses. La présente invention concerne un laser à excimères capable de produire un faisceau laser à impulsions de haute qualité à des taux d'impulsions d'environ 4 000 Hz et à des énergies d'impulsion égales ou supérieures à 5 mJ environ. Selon un mode de réalisation préféré, un laser à excimères à fluorure d'argon est spécialement conçu comme une source lumineuse pour lithographie de circuit intégré. Un ondemètre amélioré équipé d'un logiciel spécial surveille des paramètres de sortie du faisceau et commande un miroir de réglage à entraînement piézo-électrique très rapide ainsi que la tension de charge de la puissance d'impulsion afin de maintenir la longueur d'onde et l'énergie d'impulsion à l'intérieur de limites souhaitées. Dans un mode de réalisation préféré, deux moteurs de ventilateur entraînent un seul ventilateur tangentiel permettant une circulation des gaz suffisante pour éliminer de la région de décharge tout débris de décharge pendant les 0,25 millisecondes environ qui séparent les impulsions.