METHOD AND APPARATUS FOR NEUTRALIZATION OF ION BEAM USING AC OR DC ION SOURCE

An ion source for depositing thin films on a substrate in a vacuum chamber that neutralizes the positive electric charges that develop on the substrate and vacuum apparatus that may cause arcing and degradation of the film deposition. A power supply with a reversing voltage waveform is utilized that neutralizes the electric charge on the substrate and the vacuum chamber apparatus. In another embodiment the ion source comprises a second power supply which applies a negative dc bias. La présente invention concerne une source d'ions permettant de déposer des films minces sur un substrat dans une chambre à vide qui neutralise les charges électriques positives se développant sur le substrat et sur un appareil à vide, qui peuvent entraîner la production d'un arc électrique et la dégradation du dépôt de film. On utilise une alimentation à onde de tension inverse pour neutraliser la charge électrique sur le substrat et l'appareil de la chambre à vide. Dans un autre mode de réalisation, la source d'ions comprend une seconde alimentation qui applique une polarisation négative de courant continu.