SPUTTERING ASSEMBLY AND TARGET THEREFOR

A cathode assembly (11) includes a monolithic target (12) having a first surface (14) and a center region. In addition, a sculpted section (16, 17) is formed in the first surface (14), and the sculpted section (16, 17) is generally recessed from the first surface and extends around the center in a racetrack configuration (18). The racetrack has a concentric centerline (20), and the sculpted section (16, 17) preferably is generally symmetric about the centerline (20). A magnetic field generator (22) is disposed adjacent to the target (12) and produces a magnetic field having an in-plane component. The magnetic field generator (22) is tuned so that a distribution of the magnitude of the in-plane component in a direction transverse to the centerline at a point along the racetrack is characterized by two peaks that have a generally equal magnitude. Selon la présente invention, on dispose d'un ensemble cathode (11) à cible monolithique (14) définissant une première face (14) et une zone centrale. En outre, cette première face (14) porte une zone sculptée (16, 17) généralement creusée dans la première face autour du centre selon une piste rectangulaire aux extrémités hémicycliques (18) dans laquelle s'inscrit une génératrice médiane (20), la zone sculptée (16, 17) se répartissant de préférence de façon généralement symétrique autour de la génératrice médiane (20). Un générateur de champ magnétique (22) disposé contre la cible (12) produit un champ magnétique dont une composante s'inscrit dans le plan. Ce générateur de champ magnétique (22) est accordé de façon qu'une distribution de la grandeur de la composante inscrite dans le plan selon un axe transversal de la génératrice en un point quelconque de la piste se caractérise par deux pics de grandeur généralement égale.