DIGITAL FILM PROCESSING FEATURE LOCATION METHOD AND SYSTEM
One aspect of the invention is a method for locating an unexposed region of film. The method includes the step of illuminating film with a light source while the film has developing chemical applied thereto, the film comprising at least two edges along an x direction perpendicular to a y direction p...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | One aspect of the invention is a method for locating an unexposed region of film. The method includes the step of illuminating film with a light source while the film has developing chemical applied thereto, the film comprising at least two edges along an x direction perpendicular to a y direction parallel to a surface of the film. The method also includes the step of identifying an unexposed region of the film as a region containing ones of a first plurality of columns of the film, the columns disposed generally in the y direction and captured using at least one sensor operable to capture light reflected from the film, and wherein a representative value for each of the ones of first plurality of columns exceeds a threshold.
Dans un aspect de l'invention, on décrit un procédé de localisation d'une zone non exposée d'un film. Le procédé consiste à éclairer le film au moyen d'une source lumineuse après application sur le film d'un produit chimique de développement. Le film comprend au moins deux bords le long d'un axe X perpendiculaire à un axe Y lui-même parallèle à une surface du film. Le procédé consiste ensuite à identifier une zone non exposée du film en tant que zone contenant quelques colonnes d'une première série de colonnes du film, lesdites colonnes étant disposées généralement dans l'axe Y et capturées avec au moins un capteur configuré pour capter la lumière réfléchie par le film. Une valeur représentative pour chaque colonne d'une première série de colonnes est supérieure à un seuil. |
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