GAS CLUSTER ION BEAM SMOOTHER APPARATUS

An apparatus for smoothing a surface of a substrate includes an ionizer to form gas cluster particles; a power supply to accelerate the gas cluster particles; a triode/Einzel lens combination assembly to focus the accelerated gas cluster particles; a permanent magnet beam filter; scan plates to irradiate the filtered accelerated gas cluster particles onto a surface of a workpiece situated in a reduced pressure atmosphere chamber; and a substrate loading/unloading mechanism to load and unload the workpiece. The ionizer includes an alignment device wherein the alignment device includes a X/Y translation element and an angular translation element. The substrate loading/unloading mechanism provides a workpiece from a plurality of workpieces onto a holder positioned at a first position within the reduced pressure atmosphere chamber, the first position being substantially parallel to a central axis of a flow of the filtered accelerated gas cluster particles. The substrate loading/unloading mechanism also moves the holder with a workpiece thereon to a second position, the second position being substantially perpendicular to the first position and the central axis of a flow of the filtered accelerated gas cluster particles. L'invention concerne un appareil pour lisser une surface d'un substrat, qui comprend un ioniseur conçu pour former des particules en grappes gazeuses ; une alimentation conçue pour accélérer les particules en grappes gazeuses ; un ensemble combiné triode/lentille unique pour concentrer les particules en grappes gazeuses accélérées ; un filtre de faisceau à aimant permanent ; des plaques de balayage pour diffuser les particules en grappe gazeuses accélérées filtrées sur la surface d'un pièce à traiter située dans une chambre à atmosphère à pression réduite ; et un mécanisme de chargement/déchargement de substrat conçu pour charger et décharger la pièce à traiter. L'ioniseur comporte un dispositif d'alignement comportant un élément de translation X/Y et un élément de translation angulaire. Le mécanisme de chargement/déchargement du substrat place une pièce à traiter choisie parmi plusieurs pièces, sur un support mis dans une première position dans la chambre à atmosphère à pression réduite, la première position étant sensiblement parallèle à un axe central d'écoulement de particules en grappes gazeuses accélérées filtrées. le mécanisme de chargement/déchargement de substrat met également le support sur lequel une pièce est placée, dans une deuxiè