METHOD AND APPARATUS FOR ELECTRON BEAM COLUMN ASSEMBLY WITH PRECISE ALIGNMENT USING DISPLACED SEMI-TRANSPARENT MEMBRANES

For electron beam columns, an off-axis alignment assembly for aligning an electron beam emitter tip to an aperture and a method of aligning the two. One embodiment of the alignment assembly is made of an electrically conductive material, such as doped silicon, which is formed integrally with an elec...

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Hauptverfasser: SPALLAS, JAMES, P, MURAY, LAWRENCE, P
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:For electron beam columns, an off-axis alignment assembly for aligning an electron beam emitter tip to an aperture and a method of aligning the two. One embodiment of the alignment assembly is made of an electrically conductive material, such as doped silicon, which is formed integrally with an electron beam microcolumn assembly. The alignment assembly has several areas etched down to thin membranes ranging in thickness from about 2 mu m to 10 mu m. A target (e.g., a hole or raised area) is formed in each membrane and an aperture is formed during the same operation to maintain precise distances between each of the targeting positions and between each targeting position and aperture. Each membrane is transparent to a light illuminating one, or both, of its surfaces, thus allowing direct alignment of an emitting tip of an electron beam emitter with the target. Once this positioning is performed for, e.g., three targets, the precise location of the emitting tip is known relative to the aperture on the alignemt assembly, thus enabling tip alignment to the aperture without directly viewing either the tip or aperture together. L'invention concerne des colonnes de faisceaux électroniques, un ensemble d'alignement hors-axe conçu pour aligner une pointe d'émetteur de faisceaux électroniques à une ouverture, et un procédé d'alignement des deux. Dans un mode de réalisation, l'ensemble alignement est constitué d'une matière conductrice en électricité, telle que du silicium dopé, qui est intégrée à un ensemble microcolonnes de faisceaux électroniques. L'ensemble d'alignement comporte plusieurs zones gravées jusqu'à obtention de fines membranes dont l'épaisseur est comprise entre 2 mu m et 10 mu m. Une cible (p. ex. un trou ou une zone surélevée) est formée dans chaque membrane et une ouverture est formée au cours de la même opération, de façon à garder des distances précises entre chaque position de ciblage et entre les positions de ciblage et l'ouverture. Chaque membrane est transparente à une lumière illuminant une de ses surfaces ou les deux, ce qui permet un alignement direct d'une pointe émettrice d'un émetteur de faisceau électronique et de la cible. Une fois que le positionnement est obtenu pour, p. ex., trois cibles, l'emplacement précis de la pointe émettrice est connu par rapport à l'ouverture sur l'ensemble alignement, ce qui permet l'alignement de la pointe et de l'ouverture sans directement visualiser la pointe ou l'ouverture conjointement.