PYROCHLORE THIN FILMS AND PROCESS FOR MAKING
A thin film comprising a pyrochlore represented by the formula: (Bi3xZn2-3x) (ZnxNb2-x)O7 wherein x is from about 0.45 to about 0.73 and an article comprising a substrate and, coated on the substrate, a thin film of the pyrochlore are provided. Also provided is a process for depositing on a substrat...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | A thin film comprising a pyrochlore represented by the formula: (Bi3xZn2-3x) (ZnxNb2-x)O7 wherein x is from about 0.45 to about 0.73 and an article comprising a substrate and, coated on the substrate, a thin film of the pyrochlore are provided. Also provided is a process for depositing on a substrate the above pyrochlore thin film. The process includes the steps of coating the substrate with a composition comprising bismuth carboxylate, zinc carboxylate, niobium alkoxide, an organic solvent, an organic acid and an organic base, heating to remove organic components and annealing at a temperature and for a length of time sufficient to produce the pyrochlore thin film on the substrate.
L'invention concerne une couche fine comprenant un pyrochlore représenté par la formule (Bi3xZn2-3x) (ZnxNb2-x)O7, dans laquelle x se situe entre environ 0,45 et environ 0,73, et un article comprenant un substrat et, recouvrant le substrat, une couche fine de pyrochlore. Elle concerne également un procédé permettant de déposer ladite couche sur le substrat. Le procédé consiste en outre à recouvrir le substrat d'une composition comprenant du carboxylate de bismuth, du carboxylate de zinc, de l'alcoxyde de niobium, un solvant organique, un acide et une base organiques, à chauffer afin d'éliminer les constituants organiques et à recuire à une température et pendant une durée suffisantes pour produire la couche fine de pyrochlore sur le substrat. |
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