ELECTRON BEAM PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD

An electron beam physical vapor deposition (EBPVD) apparatus (10) and a method for using the apparatus (10) to produce a coating (e.g., a ceramic thermal barrier coating) on an article (20). The EBPVD apparatus (10) generally includes a coating chamber (12) that is operable at elevated temperatures...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	LAGEMANN, CHRISTOPHER, LEE, WORTMAN, DAVID, JOHN, BETSCHER, KEITH, HUMPHRIES, EVANS, JOHN, DOUGLAS, SR, MARICOCCHI, ANTONIO, FRANK, VIGUIE, RUDOLFO, WILLEN, WILLIAM, SETH, BRUCE, ROBERT, WILLIAM, RIGNEY, DAVID, VINCENT
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	AIR INTAKES FOR JET-PROPULSION PLANTS BASIC ELECTRIC ELEMENTS BLASTING CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL COMBUSTION ENGINES CONTROLLING FUEL SUPPLY IN AIR-BREATHING JET-PROPULSION PLANTS DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ELECTRICITY GAS-TURBINE PLANTS HEATING HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL LIGHTING MECHANICAL ENGINEERING METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION WEAPONS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	An electron beam physical vapor deposition (EBPVD) apparatus (10) and a method for using the apparatus (10) to produce a coating (e.g., a ceramic thermal barrier coating) on an article (20). The EBPVD apparatus (10) generally includes a coating chamber (12) that is operable at elevated temperatures and subatmospheric pressures. An electron beam gun (30) projects an electron beam (28) into the coating chamber (12) and onto a coating material (26) within the chamber (12), causing the coating material (26) to melt and evaporate. An article (20) is supported within the coating chamber (12) so that vapors of the coating material (26) deposit on the article (20). The operation of the EBPVD apparatus (10) is enhanced by the inclusion or adaptation of one or more mechanical and/or process modifications, including those necessary or beneficial when operating the apparatus (10) at coating pressures above 0.010 mbar. La présente invention concerne un appareil (10) de dépôt par vapeur physique à faisceau électronique (EBPVD) et un procédé permettant d'utiliser l'appareil (10) pour produire un revêtement (par exemple, un revêtement de barrière thermique en céramique) sur un article (20). L'appareil d'EBPVD (10) comprend généralement une chambre de revêtement (12) qui peut fonctionner à des températures élevées et à des pressions subatmosphériques. Un canon à faisceau électronique (30) projette un faisceau électronique (28) dans la chambre de revêtement (12), sur un matériau de revêtement (26) placé à l'intérieur de la chambre de revêtement (12), entraînant la fusion et l'évaporation du matériau de revêtement. Un article (20) est supporté à l'intérieur de la chambre de revêtement (12) de façon que les vapeurs du matériau de revêtement (26) se déposent sur l'article (20). On améliore le fonctionnement de l'appareil d'EBPVD (10) en apportant une ou plusieurs modifications mécaniques et/ou de processus, y compris les modifications nécessaires ou avantageuses pour assurer le fonctionnement de l'appareil (10) à des pressions de revêtement supérieures à 0,010 mbar.