ABLATION ENHANCEMENT LAYER
An ablatable laminar imaging medium useful in the manufacture of a substantially transparent electrode assembly is disclosed. The laminar imaging medium comprises a substrate, a high-index metal oxide layer, an ablatable metallic conductive layer, a high-index conductive metal oxide layer, and an ab...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | An ablatable laminar imaging medium useful in the manufacture of a substantially transparent electrode assembly is disclosed. The laminar imaging medium comprises a substrate, a high-index metal oxide layer, an ablatable metallic conductive layer, a high-index conductive metal oxide layer, and an ablation enhancement layer. The ablation enhancement layer has an IR-absorption greater than the IR-absorption of said high-index conductive metal oxide layer and an IR-reflectivity less than the IR-reflectivity of said high-index conductive metal oxide layer. Presence in the laminar imaging medium of the ablation enhancement layer lowers the exposure threshold of the medium and improves ablation accuracy, both -- when occasioned in the manufacture of LCD electrode patterns -- resulting collectively and ultimately in a more reliably formed electrical architecture, less susceptible to unwanted "shorting".
L'invention concerne un support de formation d'image laminaire pouvant être supprimé, qui est utile dans la fabrication d'un ensemble électrode sensiblement transparent. Le support de formation d'image laminaire comporte un substrat, une couche d'oxyde métallique à indice élevé, une couche conductrice métallique pouvant être supprimée, une couche d'oxyde métallique conductrice à indice élevé et une couche améliorant l'ablation. La couche améliorant l'ablation présente une absorption d'IR supérieure à celle de ladite couche d'oxyde métallique conductrice à indice élevé, et une réflectivité d'IR inférieure à celle de ladite couche d'oxyde métallique conductrice à indice élevé. La présence de cette couche améliorant l'ablation dans le support de formation d'image laminaire permet de réduire le seuil d'exposition du support et d'améliorer la précision d'ablation, ces facteurs permettant d'obtenir finalement, dans la fabrication de motifs d'électrode d'affichages à cristaux liquides, une architecture électrique formée de manière plus fiable, moins sujette à des courts-circuits. |
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