PLASMA PROCESSING CENTRIFUGE WITH DUAL ZONE TEMPERATURE CONTROL

The invention provides dual zone cooling for a contained centrifuge useful for plasma processing. This dual zone cooling allows for control of the paste temperature at a low (below zero centigrade) temperature, while the effluent temperature is maintained above freezing. L'invention concerne le...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: FREYER, DETLEF, R., W, SHARMA, RAJESH, COOPER, TIMOTHY, A, PAUL, HANNSOLF
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:The invention provides dual zone cooling for a contained centrifuge useful for plasma processing. This dual zone cooling allows for control of the paste temperature at a low (below zero centigrade) temperature, while the effluent temperature is maintained above freezing. L'invention concerne le refroidissement double zone d'une centrifugeuse contenue utilisée dans le traitement au plasma. Ce refroidissement double zone permet de réguler la température de la pâte à basse température (inférieure à 0 DEG C), alors que la température de l'effluent est maintenue au-dessus du point de congélation.