METHOD OF POST CMP DEFECT STABILITY IMPROVEMENT

The present invention provides a method and apparatus for delivering one or more rinse agents to a surface, such as a polishing pad surface and preferably one or more polishing fluids. The invention also provides a method of cleaning one or more surfaces, such as a polishing pad surface and a substrate surface, by delivering a spray of one or more rinse agents to the surface and, preferably, causing the rinse agent to flow across the surface from a central region to an outer region where unwanted debris and material is collected. L'invention concerne un procédé et un dispositif servant à appliquer un ou plusieurs agents de rinçage à une surface, tel qu'une surface de tampon de polissage et, de préférence, un ou plusieurs liquides de polissage. Elle concerne également un procédé de nettoyage d'une ou de plusieurs surfaces, telles qu'une surface de tampon de polissage et une surface de substrat, par pulvérisation d'un ou de plusieurs agents de rinçage sur cette surface en provoquant, de préférence, l'écoulement de l'agent de rinçage sur ladite surface depuis une zone centrale jusqu'à une zone extérieure sur laquelle sont recueillis les débris et les matériaux indésirables.