POLISHING PAD HAVING OPEN AREA WHICH VARIES WITH DISTANCE FROM INITIAL PAD SURFACE

A polishing pad (400) having a cross-sectional open area (404) which varies with depth from the pad surface is provided. The cross-sectional open area (404) of the pad (400) may increase and/or decrease moving away from the outer pad surface. In some cases, the cross-sectional open area (404) of the pad (400) varies uniformly with depth over the entire pad. In other cases, certain regions of the pad may define local cross-sectional open areas (404) which vary differently. This can, for example, allow the open area (404) of the pad to vary with pad life and improve or tailor the polishing uniformity of the pad and/or extend the useful life of the pad (400). Cette invention concerne un tampon à polir (400) qui comprend une zone ouverte (404) au niveau de sa section transversale, laquelle zone varie en fonction de la profondeur depuis la surface du tampon. La zone ouverte (404) au niveau la section transversale du tampon (400) peut augmenter et/ou diminuer lorsque l'on s'écarte de la surface extérieure du tampon. Dans certains cas, la zone ouverte (404) du tampon (400), au niveau la section transversale, varie uniformément en fonction de la profondeur sur la totalité du tampon. Dans d'autres cas, certaines régions du tampon peuvent former des zones ouvertes locales (404), au niveau la section transversale, qui varient différemment. La zone ouverte (404) du tampon peut ainsi varier en fonction de la durée d'utilisation du tampon, et améliorer ou adapter d'uniformité de polissage du tampon (400) et/ou accroître la durée de vie utile dudit tampon (400).