SINGLE COMPONENT DEVELOPER FOR COPOLYMER RESISTS

A method for developing copolymer photosensitive resists wherein a single solvent is used in conjunction with a puddle develop tool. The copolymer resist is ZEP 7000 and the developer is ethyl 3-ethoxy propionate (EEP). La présente invention concerne un procédé permettant, pour révéler un photorésis...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	LINDE, HAROLD, G, SHEPARD, JEFFREY, F, FAURE, THOMAS, B, LEVIN, JAMES, P, FLANDERS, STEVEN
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	A method for developing copolymer photosensitive resists wherein a single solvent is used in conjunction with a puddle develop tool. The copolymer resist is ZEP 7000 and the developer is ethyl 3-ethoxy propionate (EEP). La présente invention concerne un procédé permettant, pour révéler un photorésiste copolymère, d'utiliser un unique solvant en association avec un outil pour développement par barbotage. Ce photorésiste copolymère est le ZEP 7000, le révélateur utilisé étant l'éthyle 3-éthoxy propionate (EEP).