SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING INTER-METAL DIELECTRIC PATTERNS AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME
A semiconductor device includes a patterned metal layer on a substrate, via conductors on the patterned metal layer, first inter-metal dielectric (IMD) patterns embedded in the patterned metal layer, and a second IMD pattern surrounding the patterned metal layer. Preferably, the first IMD patterns a...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng |
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