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In an embodiment, a device includes: an integrated circuit die; a first dielectric layer over the integrated circuit die; a first metallization pattern extending through the first dielectric layer to electrically connect to the integrated circuit die; a second dielectric layer over the first metalli...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Chen, Wei-Yu, Huang, Li-Hsien, Su, An-Jhih, Yeh, Ming Shih, Yeh, Der-Chyang
Format: Patent
Sprache:eng
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