WAFER PRODUCTION METHOD

A wafer production method includes a separation layer forming step of positioning, from an end surface, the focal point of a laser beam with a wavelength having transmissibility with respect to a semiconductor ingot, at a depth corresponding to the thickness of a wafer to be produced, and irradiatin...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: NOMOTO, Asahi
Format: Patent
Sprache:eng
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