PLASMA PROCESSING APPARATUS

In a plasma processing apparatus that can adjust an induction magnetic field distribution of power feeding sections of an induction coil, correct a plasma distribution on a specimen, and apply uniform plasma processing to the specimen, the specimen is subjected to plasma processing, a dielectric win...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Kawaguchi, Tadayoshi, Nishio, Ryoji, Sakka, Yusaku
Format: Patent
Sprache:eng
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