Low-K Precursors Based on Silicon Cryptands, Crown Ethers and Podands
Disclosed herein is the use of a silicon podand, silicon crown ether, or silicon cryptand to form a low-k dielectric film on a substrate.
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Hauptverfasser: | , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng |
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Zusammenfassung: | Disclosed herein is the use of a silicon podand, silicon crown ether, or silicon cryptand to form a low-k dielectric film on a substrate. |
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