Low-K Precursors Based on Silicon Cryptands, Crown Ethers and Podands

Disclosed herein is the use of a silicon podand, silicon crown ether, or silicon cryptand to form a low-k dielectric film on a substrate.

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: DUSSARRAT CHRISTIAN, MCANDREW JAMES J.F
Format: Patent
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:Disclosed herein is the use of a silicon podand, silicon crown ether, or silicon cryptand to form a low-k dielectric film on a substrate.