Dual source injector with switchable analyzing magnet

An ion implantation system has a mass analyzing magnet having interior and exterior region and defining a first entrance, second entrance, and an exit. A first ion source defines a first ion beam directed toward the first entrance along a first beam path. A second ion source defines a second ion bea...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Platow, Wilhelm, Bassom, Neil
Format: Patent
Sprache:eng
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