DEVICE FOR PROCESSING LIQUID METAL

A device for processing liquid metal contains a elastic wave source for electrohydroimpulse processing of melt in a ladle in the form of an electric-discharge cooled chamber with a lid, a membrane in the form of a flat disc with waveguide, positive and negative, this is waveguide, electrodes connect...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: MELNYK OLEKSANDR VIKTOROVYCH, TSURKIN VOLODYMYR MYKOLAIOVYCH, HRABOVYI VALERII MYKHAILOVYCH
Format: Patent
Sprache:eng ; rus ; ukr
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:A device for processing liquid metal contains a elastic wave source for electrohydroimpulse processing of melt in a ladle in the form of an electric-discharge cooled chamber with a lid, a membrane in the form of a flat disc with waveguide, positive and negative, this is waveguide, electrodes connected to a generator of current pulses. The thickness of electric discharge chamber lid makes 0.5-1.5 of the membrane thickness. Устройство для обработки жидкого металла содержит источник упругих колебаний для электрогидроимпульсной обработки расплава в ковше в виде электроразрядной охлаждаемой камеры с крышкой, мембраной в виде плоского диска с волноводом, с положительным и отрицательным, которым является волновод, электродами, соединенными с генератором импульсов тока. Толщина крышки электроразрядной камеры равна 0,5-1,5 толщины мембраны. Пристрій для обробки рідкого металу містить джерело пружних коливань для електрогідроімпульсної обробки розплаву в ковші у вигляді електророзрядної камери, що охолоджується, з кришкою, мембраною у вигляді плоского диска з хвилеводом, позитивним та негативним, яким є хвилевід, електродами, які з'єднані з генератором імпульсів струму. Товщина кришки електророзрядної камери дорівнює 0,5-1,5 товщини мембрани.