PROCESS of application of coatings on grains of silicon and boron carbides from ionic melts
A method for application of coatings on grains of silicon and boron carbides from ionic melts involves disposition of abrasive powder in high temperature medium of refractory metals compounds. The medium is electrolyte in the form of melt of sodium tungstate - molybdenum (tungsten) oxide (VI) at the...
Gespeichert in:
| Hauptverfasser: | , , , |
|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; rus ; ukr |
| Online-Zugang: | Volltext bestellen |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| container_end_page | |
|---|---|
| container_issue | |
| container_start_page | |
| container_title | |
| container_volume | |
| creator | Sushynskyi Mykola Mykhailovych Novoselova Inessa Arkadiivna Malyshev Viktor Volodymyrovych Hab Anhelina Ivanivna |
| description | A method for application of coatings on grains of silicon and boron carbides from ionic melts involves disposition of abrasive powder in high temperature medium of refractory metals compounds. The medium is electrolyte in the form of melt of sodium tungstate - molybdenum (tungsten) oxide (VI) at the temperature of 800 - 900 °C and cathode current density of 0.02 - 0.25 A/cm2.
Способ нанесения покрытий на зерна карбидов кремния и бора из ионных расплавов включает размещение абразивного порошка в высокотемпературной среде соединений тугоплавких металлов. Среда является электролитом в виде расплава вольфрамат натрия - оксид молибдена (вольфрама) (VI) при температуре 800 - 900°C и катодной плотности тока 0,02 - 0,25 А/см2.
Спосіб нанесення покриттів на зерна карбідів кремнію і бору з іонних розплавів включає розміщення абразивного порошку в високотемпературному середовищі сполук тугоплавких металів. Середовище є електролітом у вигляді розплаву вольфрамат натрію - оксид молібдену (вольфраму) (VI) при температурі 800 - 900°С і катодній щільності струму 0,02 - 0,25 А/см2. |
| format | Patent |
| fullrecord | <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_UA40852A</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>UA40852A</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_UA40852A3</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZIgOCPJ3dg0OVshPU0gsKMjJTE4syczPA3GT84HMvPRiBSA3vSgxM68YJFqcCVQDFEnMS1FIyi8CspITi5IyU1KLFdKK8nMVgJozkxVyU3NKinkYWNMSc4pTeaE0N4Osm2uIs4duakF-fGpxQWJyal5qSXyoo4mBhamRozEheQD9RjjB</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>PROCESS of application of coatings on grains of silicon and boron carbides from ionic melts</title><source>esp@cenet</source><creator>Sushynskyi Mykola Mykhailovych ; Novoselova Inessa Arkadiivna ; Malyshev Viktor Volodymyrovych ; Hab Anhelina Ivanivna</creator><creatorcontrib>Sushynskyi Mykola Mykhailovych ; Novoselova Inessa Arkadiivna ; Malyshev Viktor Volodymyrovych ; Hab Anhelina Ivanivna</creatorcontrib><description>A method for application of coatings on grains of silicon and boron carbides from ionic melts involves disposition of abrasive powder in high temperature medium of refractory metals compounds. The medium is electrolyte in the form of melt of sodium tungstate - molybdenum (tungsten) oxide (VI) at the temperature of 800 - 900 °C and cathode current density of 0.02 - 0.25 A/cm2.
Способ нанесения покрытий на зерна карбидов кремния и бора из ионных расплавов включает размещение абразивного порошка в высокотемпературной среде соединений тугоплавких металлов. Среда является электролитом в виде расплава вольфрамат натрия - оксид молибдена (вольфрама) (VI) при температуре 800 - 900°C и катодной плотности тока 0,02 - 0,25 А/см2.
Спосіб нанесення покриттів на зерна карбідів кремнію і бору з іонних розплавів включає розміщення абразивного порошку в високотемпературному середовищі сполук тугоплавких металів. Середовище є електролітом у вигляді розплаву вольфрамат натрію - оксид молібдену (вольфраму) (VI) при температурі 800 - 900°С і катодній щільності струму 0,02 - 0,25 А/см2.</description><language>eng ; rus ; ukr</language><creationdate>2001</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20010815&DB=EPODOC&CC=UA&NR=40852A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20010815&DB=EPODOC&CC=UA&NR=40852A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>Sushynskyi Mykola Mykhailovych</creatorcontrib><creatorcontrib>Novoselova Inessa Arkadiivna</creatorcontrib><creatorcontrib>Malyshev Viktor Volodymyrovych</creatorcontrib><creatorcontrib>Hab Anhelina Ivanivna</creatorcontrib><title>PROCESS of application of coatings on grains of silicon and boron carbides from ionic melts</title><description>A method for application of coatings on grains of silicon and boron carbides from ionic melts involves disposition of abrasive powder in high temperature medium of refractory metals compounds. The medium is electrolyte in the form of melt of sodium tungstate - molybdenum (tungsten) oxide (VI) at the temperature of 800 - 900 °C and cathode current density of 0.02 - 0.25 A/cm2.
Способ нанесения покрытий на зерна карбидов кремния и бора из ионных расплавов включает размещение абразивного порошка в высокотемпературной среде соединений тугоплавких металлов. Среда является электролитом в виде расплава вольфрамат натрия - оксид молибдена (вольфрама) (VI) при температуре 800 - 900°C и катодной плотности тока 0,02 - 0,25 А/см2.
Спосіб нанесення покриттів на зерна карбідів кремнію і бору з іонних розплавів включає розміщення абразивного порошку в високотемпературному середовищі сполук тугоплавких металів. Середовище є електролітом у вигляді розплаву вольфрамат натрію - оксид молібдену (вольфраму) (VI) при температурі 800 - 900°С і катодній щільності струму 0,02 - 0,25 А/см2.</description><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2001</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZIgOCPJ3dg0OVshPU0gsKMjJTE4syczPA3GT84HMvPRiBSA3vSgxM68YJFqcCVQDFEnMS1FIyi8CspITi5IyU1KLFdKK8nMVgJozkxVyU3NKinkYWNMSc4pTeaE0N4Osm2uIs4duakF-fGpxQWJyal5qSXyoo4mBhamRozEheQD9RjjB</recordid><startdate>20010815</startdate><enddate>20010815</enddate><creator>Sushynskyi Mykola Mykhailovych</creator><creator>Novoselova Inessa Arkadiivna</creator><creator>Malyshev Viktor Volodymyrovych</creator><creator>Hab Anhelina Ivanivna</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20010815</creationdate><title>PROCESS of application of coatings on grains of silicon and boron carbides from ionic melts</title><author>Sushynskyi Mykola Mykhailovych ; Novoselova Inessa Arkadiivna ; Malyshev Viktor Volodymyrovych ; Hab Anhelina Ivanivna</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_UA40852A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; rus ; ukr</language><creationdate>2001</creationdate><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>Sushynskyi Mykola Mykhailovych</creatorcontrib><creatorcontrib>Novoselova Inessa Arkadiivna</creatorcontrib><creatorcontrib>Malyshev Viktor Volodymyrovych</creatorcontrib><creatorcontrib>Hab Anhelina Ivanivna</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>Sushynskyi Mykola Mykhailovych</au><au>Novoselova Inessa Arkadiivna</au><au>Malyshev Viktor Volodymyrovych</au><au>Hab Anhelina Ivanivna</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>PROCESS of application of coatings on grains of silicon and boron carbides from ionic melts</title><date>2001-08-15</date><risdate>2001</risdate><abstract>A method for application of coatings on grains of silicon and boron carbides from ionic melts involves disposition of abrasive powder in high temperature medium of refractory metals compounds. The medium is electrolyte in the form of melt of sodium tungstate - molybdenum (tungsten) oxide (VI) at the temperature of 800 - 900 °C and cathode current density of 0.02 - 0.25 A/cm2.
Способ нанесения покрытий на зерна карбидов кремния и бора из ионных расплавов включает размещение абразивного порошка в высокотемпературной среде соединений тугоплавких металлов. Среда является электролитом в виде расплава вольфрамат натрия - оксид молибдена (вольфрама) (VI) при температуре 800 - 900°C и катодной плотности тока 0,02 - 0,25 А/см2.
Спосіб нанесення покриттів на зерна карбідів кремнію і бору з іонних розплавів включає розміщення абразивного порошку в високотемпературному середовищі сполук тугоплавких металів. Середовище є електролітом у вигляді розплаву вольфрамат натрію - оксид молібдену (вольфраму) (VI) при температурі 800 - 900°С і катодній щільності струму 0,02 - 0,25 А/см2.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
| fulltext | fulltext_linktorsrc |
| identifier | |
| ispartof | |
| issn | |
| language | eng ; rus ; ukr |
| recordid | cdi_epo_espacenet_UA40852A |
| source | esp@cenet |
| title | PROCESS of application of coatings on grains of silicon and boron carbides from ionic melts |
| url | https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2024-12-22T10%3A59%3A02IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=Sushynskyi%20Mykola%20Mykhailovych&rft.date=2001-08-15&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EUA40852A%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true |