PROCESS of application of coatings on grains of silicon and boron carbides from ionic melts

A method for application of coatings on grains of silicon and boron carbides from ionic melts involves disposition of abrasive powder in high temperature medium of refractory metals compounds. The medium is electrolyte in the form of melt of sodium tungstate - molybdenum (tungsten) oxide (VI) at the...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Sushynskyi Mykola Mykhailovych, Novoselova Inessa Arkadiivna, Malyshev Viktor Volodymyrovych, Hab Anhelina Ivanivna
Format: Patent
Sprache:eng ; rus ; ukr
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:A method for application of coatings on grains of silicon and boron carbides from ionic melts involves disposition of abrasive powder in high temperature medium of refractory metals compounds. The medium is electrolyte in the form of melt of sodium tungstate - molybdenum (tungsten) oxide (VI) at the temperature of 800 - 900 °C and cathode current density of 0.02 - 0.25 A/cm2. Способ нанесения покрытий на зерна карбидов кремния и бора из ионных расплавов включает размещение абразивного порошка в высокотемпературной среде соединений тугоплавких металлов. Среда является электролитом в виде расплава вольфрамат натрия - оксид молибдена (вольфрама) (VI) при температуре 800 - 900°C и катодной плотности тока 0,02 - 0,25 А/см2. Спосіб нанесення покриттів на зерна карбідів кремнію і бору з іонних розплавів включає розміщення абразивного порошку в високотемпературному середовищі сполук тугоплавких металів. Середовище є електролітом у вигляді розплаву вольфрамат натрію - оксид молібдену (вольфраму) (VI) при температурі 800 - 900°С і катодній щільності струму 0,02 - 0,25 А/см2.