Plasma processing components, method of manufacturing the same, plasma chamber having the same, and method of increasing chamber part lifetime and reducing contamination

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: TAYLOR, TRAVIS R, RAMANUJAM, K. Y, SRINIVASAN, MUKUND, MIKIJELJ, BILJANA, WU, SHANGHUA, KADKHODAYAN, BOBBY
Format: Patent
Sprache:chi ; eng
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