電漿處理裝置用上腔室

【物品用途】;本設計的物品是電漿處理裝置用上腔室,為一種在製造半導體時所使用的電漿處理裝置中,在進行半導體晶圓等之表面處理時用來構成真空空間的上腔室。;【設計說明】;呈現在立體圖中但未呈現在其他六面圖中的細線,係用來表現立體表面之形狀的線條。呈現在右側視圖之下方中央的圓形部,係為貫通的孔。...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KAWAGUCHI, TADAYOSHI, NAGAI, KOJI, SATO, KOHEI, IKENAGA, KAZUYUKI
Format: Patent
Sprache:chi
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Beschreibung
Zusammenfassung:【物品用途】;本設計的物品是電漿處理裝置用上腔室,為一種在製造半導體時所使用的電漿處理裝置中,在進行半導體晶圓等之表面處理時用來構成真空空間的上腔室。;【設計說明】;呈現在立體圖中但未呈現在其他六面圖中的細線,係用來表現立體表面之形狀的線條。呈現在右側視圖之下方中央的圓形部,係為貫通的孔。